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鄂尔多斯哪里卖嘧啶胺厂家

2022-12-18
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内蒙古玉嘧磺胺复合菌系对磺酰脲类除草剂降解性能的研究:磺酰脲类除草剂是世界上应用甚广的一种除草剂,我国广泛使用的主要有甲磺隆、苯磺隆、氯嘧磺隆等。它的特点是低毒性、高效、高活性、选择性强,用量在每公顷几克到几十克之间,除草谱较广,大部分农作物都能匹配其适宜的除草剂。鄂尔多斯嘧啶胺随着除草剂的长期施用,导致土壤中残留大量的除草剂,严重破坏了生态环境。因此研究微生物降解磺酰脲类除草剂的对解决环境污染问题具有重要意义。之前有学者利用复合菌系降解纤维素及其他化学物质,并且效果优于仅用单菌株的降解,但是利用复合菌系来降解磺酰脲类除草剂还鲜有研究,鄂尔多斯嘧啶胺所以本文探究复合菌系间协同作用对磺酰脲类除草剂的降解效果

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内蒙古玉嘧磺胺3-(4,6-二甲氧基嘧啶-2-基)-1-(2-甲氧羰基-4-氨基苯基)磺酰脲B;3-(4,6-二甲氧基嘧啶-2-基)-1-(2-甲氧羰基-4-硝基苯基)磺酰脲C;3-(4-氯-6-甲氧基嘧啶-2-基)-1-(2-甲氧羰基-4-硝基苯基)磺酰脲D;鄂尔多斯嘧啶胺3-(4-氯-6-甲氧基嘧啶-2-基)-1-(2-甲氧羰基-4-氨基苯基)磺酰脲E为研究对象,利用高效液相色谱研究其在无光照条件下的水解情况。首先,利用前处理技术测定两种新型磺酰脲类除草剂在水体p H=5条件下的降解速率。通过实验探索氯嘧磺隆类似物A和新型除草剂3-(4,6-二甲氧基嘧啶-2-基)-1-(2-甲氧羰基-4-氨基苯基)磺酰脲B的液相色谱分析条件,鄂尔多斯嘧啶胺厂家测定其25℃无光照条件下在水体p H=5时的水解半衰期

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内蒙古氨基嘧啶衍生物的合成和曼尼希反应在农药合成中的应用:本文对新化合物硝基亚氨基嘧啶类衍生物进行设计与合成,并进行杀菌活性测定,对曼尼希反应(Mannich Reaction)在杀虫剂噻虫嗪(Thiamethoxam)、噻虫胺(Clothianidin)合成中的应用进行了探讨。鄂尔多斯嘧啶胺可分为以下两个部分: 一部分:硝基亚氨基嘧啶类衍生物的设计合成与杀菌活性测定 该部分设计利用乙酰丙酮、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯和硝基胍合成硝基亚氨基嘧啶衍生物。在合成过程中,由于原料中的甲氧基和乙氧基水解为羟基,因此,得到了两个系列的16个化合物。鄂尔多斯嘧啶胺厂家利用1~H NMR,(13)~C NMR, HRMS, IR等对其结构进行了鉴定,并对其进行了杀菌活性的测定。

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内蒙古氨基嘧啶选用Keggin结构硅钼多酸阴离子为结构主体,2-氨基吡啶、3-氨基吡啶和4-氨基吡啶为有机配体合成了三个新型的多酸衍生物:鄂尔多斯嘧啶胺(2-C_5H_7N_2)_3·(SiMo_(12)O_(40))·(C_4H_8N_4)_(0.5)·(C_5H_6N_2)_2·(H_2O)_2(1)、(3-C_5H_7N_2)_8·(SiMo_(12)O_(40)-)_2·(C_5H_7N_3)_2·(H_8O_4)·(H_2O)_8(2)和(4-C_5H_7N_2)_6·(SiMo_(12)O_(40))(3)。配合物1属于单斜晶系,P_2_1/c空间群。配合物2属于四方晶系,P4(2)/n空间群。配合物3属于三方晶系,R-3空间群。鄂尔多斯嘧啶胺厂家配合物1和2分子结构中存在大量的π-π堆积作用和氢键作用力,配合物通过这些广泛存在的分子间作用力形成一个三维立体网状结构。

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氨基嘧啶类CDK4/6抑制剂的设计、内蒙古氨基嘧啶合成及生物活性研究:CDK即细胞周期蛋白依赖性激酶,属于丝氨酸/苏氨酸蛋白激酶家族,是调控细胞周期的重要因子。根据CDK功能的不同,将其主要分为两大类:一类CDK参与细胞周期调控,主要包括CDK1、CDK2、CDK4、CDK6等;鄂尔多斯嘧啶胺另一大类CDK参与转录调节,主要包括CDK7、CDK8、CDK9、CDK10、CDK11等。近年来,随着辉瑞的palbociclib、诺华的ribocilib以及礼来的abemaciclib的先后上市,人们对于CDK的研究兴趣被重新点燃,研究CDK抑制剂已经被越来越多的科学家关注。为了寻找高活性、低毒性的新型先导化合物,鄂尔多斯哪里卖嘧啶胺本论文借鉴已上市的CDK4/6抑制剂palbociclib和ribocilib的结构特点

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内蒙古氨基嘧啶类及噻唑类含氮杂环分子的合成研究:近年的药物化学研究表明,多取代的氨基嘧啶类化合物对可介导帕金森症的JNK3激酶具有较好的抑制活性,一种联噻唑化合物对囊性纤维化ΔF508突变的跨膜蛋白具有校正作用。鄂尔多斯嘧啶胺本文分别对多取代氨基嘧啶类和联噻唑双唑类化合物的合成开展相关研究,本合成研究实现了以易获得的试剂为原料,通过简洁的合成路线制备出这多个两类具有重要生物活性的化合物,鄂尔多斯嘧啶胺为此类化合物生物药学活性的构效关系研究与先导化合物的筛选奠定物质基础。此研究结果将对CFTR校正剂的分子设计提供理论依据。

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